Beneq在光電週發表直徑600毫米的先進ALD精密光學鍍膜技術
【本會訊】荷蘭Beneq於10/26舉辦之微光學鍍膜顯示與Metaverse應用研討會上發表最新的P800型鍍膜設備,採用先進ALD精密光學鍍膜技術,可針對直徑大於600毫米的零件進行塗層,或使用P800的容量輕鬆擴大較小尺寸零件的生產量,而不會影響薄膜質量和均勻性。
Beneq P800功能強大,配備高容量前驅材料源、去活化和過濾系統,可輕鬆沉積微米厚度的薄膜沉積疊層。其靈活性,提供可定制的反應室尺寸,針對客戶的基材和應用進行優化。反應室可輕鬆切換,便於維護與提供最長的機台正常運作時間。
根據荷蘭Beneq表示,原子層沉積(Atomic Layer Deposition,ALD)是新一代半導體製程技術,比起一般常見的薄膜沉積法更能夠利用cycle數精準的控制膜厚品質,並擁有良好的均勻性與極高的高寬比特性,已被企業廣泛所採用。
荷蘭Beneq是ALD技術的領導廠商,擁有研發、半導體元件製造、批量生產、空間ALD和卷對卷ALD設計,以及製造領先的ALD設備。